Alvo de pulverização catódica de metal molibdênio

Alta pureza, alta densidade, tamanho de grão, orientação de cristal, condutividade térmica e condutividade elétrica

(1) Quanto maior a pureza do alvo de molibdênio, melhor o desempenho do filme pulverizado. Geralmente, a pureza do alvo de pulverização de molibdênio deve ser de pelo menos 99,95%.

(2) Durante o processo de revestimento por pulverização catódica, quando o alvo de pulverização catódica com baixa densidade é bombardeado, o gás nos poros dentro do alvo é liberado repentinamente, resultando em partículas alvo em grande escala ou respingos de micropartículas, ou após a formação do filme, o filme é bombardeado por elétrons secundários para formar respingos de micropartículas. O aparecimento dessas partículas reduzirá a qualidade do filme. Para reduzir os poros no sólido alvo e melhorar o desempenho do filme, o alvo de pulverização catódica geralmente precisa ter uma densidade maior. Para o alvo de pulverização catódica de molibdênio, sua densidade relativa deve ser acima de 98%.

(3) Geralmente, o alvo de pulverização catódica de molibdênio é uma estrutura policristalina, e o tamanho do grão pode variar de micrômetros a milímetros. A taxa de pulverização catódica de alvos de grãos em escala fina é mais rápida do que a de grãos grossos, e a distribuição da espessura do filme depositado é mais uniforme para alvos com diferenças menores de tamanho de grão.

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