Método de preparação do alvo de níquel
Método de preparação do alvo de níquel
Sputtering Method : inclui a pulverização de CC e a pulverização da RF. A pulverização de DC é usada para materiais não insulativos, como o níquel. Uma diferença de tensão é formada entre o alvo e o substrato através de uma fonte de alimentação CC para acionar os átomos de níquel a espalhar da superfície alvo para o substrato. A pulverização de RF é adequada para materiais isolantes ou de alta resistência. Ao formar um campo elétrico de RF entre o alvo e o substrato, o gás está animado para gerar plasma, promovendo assim a deposição de átomos de níquel.
Método de evaporação do feixe de elétron: Em um ambiente de vácuo, um feixe de elétrons de alta energia é usado para atingir oalvo de níquel, de modo que os átomos de níquel em sua superfície ganham energia e evaporam e condensam o substrato para formar um filme fino.
Deposição de vapor químico (CVD) : O níquel é depositado na superfície do substrato em alta temperatura por reação química. Este método requer compostos voláteis de níquel como reagentes. Ao controlar com precisão as condições de reação, pode ser obtido um filme de níquel de alta pureza e uniforme.
Method Método de prensagem : O níquel em pó é comprimido e moldado sob alta temperatura e alta pressão, que geralmente é usada para produzir alvos de níquel de alta pureza e alta densidade. Este método pode controlar a microestrutura do alvo de níquel.
Tabela de parâmetros detalhados do produto de alvo de níquel
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Nome do produto |
Fornecer alvo de níquel de alta qualidade para o revestimento de PVC |
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Nota |
NI200 (N6), NI201 (N4) |
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Origem |
Cidade de Baoji Província de Shaanxi China |
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forma |
Alvo redondo / alvo de placa / alvo de tubo |
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Conteúdo de níquel |
99.6%, 99.9% |
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Conteúdo de impureza |
<0.01 (%) |
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Superfície |
Enrolado/frio enrolado a quente |
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Padrão |
ASTM B127% 2fASTM B162 |
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Técnica |
Forjado e CNC usinado |
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Aplicativo |
Indústria de revestimento de PVD |
Exibição do produto alvo de níquel Sputtering
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