Alvo redondo de pulverização catódica de níquel

Alvo redondo de pulverização catódica de níquel

Tamanho: Tamanho Personalizado
Cor: Prata
Embalagem: Caixa de Madeira
Pureza: 99,6% mín.
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Descrição
Parâmetros técnicos
Método de preparação de alvo de níquel

 

⑴Método de pulverização catódica - pulverização catódica DC: usado para materiais não isolantes como o níquel, uma diferença de tensão é formada entre oalvoe o substrato através de uma fonte de alimentação DC, fazendo com que os átomos de níquel saltem da superfície alvo para o substrato. - Sputtering RF: adequado para materiais isolantes ou de alta resistência. A pulverização catódica de RF forma um campo elétrico de radiofrequência entre o alvo e o substrato para excitar o gás e gerar plasma, promovendo assim a deposição de átomos de níquel.
⑵Método de evaporação por feixe de elétrons - Em um ambiente de vácuo, um feixe de elétrons de alta energia é usado para atingir o alvo de níquel, de modo que os átomos de níquel em sua superfície ganhem energia para evaporar e condensar no substrato para formar uma película fina.
⑶Deposição química de vapor (CVD) - O níquel é depositado na superfície do substrato em alta temperatura por meio de reações químicas. Este método requer compostos voláteis de níquel como reagentes e, controlando com precisão as condições de reação, um filme de níquel uniforme e de alta pureza pode ser obtido.
⑷Método de prensagem a quente - O pó de níquel é comprimido e moldado sob alta temperatura e alta pressão, geralmente usado para produzir alvos de níquel de alta pureza e alta densidade. Este método pode controlar a microestrutura do alvo de níquel e melhorar suas propriedades físicas.
⑸Eletrólise - Este é um método de deposição de níquel diretamente de uma solução salina de níquel em um substrato por meio de um processo eletrolítico. Esta tecnologia pode produzir alvos de níquel para grandes áreas a baixo custo.
⑹Publicidade magnética - Ao adicionar um campo magnético para controlar a trajetória das partículas pulverizadas, a eficiência de deposição do alvo de níquel e a uniformidade da camada de filme são melhoradas.

 

Parâmetros detalhados da meta de níquel

 

Produto: Alvo de pulverização catódica de níquel
Pureza: 99.99%, 99.995%
Tamanho: personalizado
Forma: retangular ou redondo
Tecnologia: VIM
Aplicativo: indústria de revestimento pvd
Embalagem: Pacote selado Vacumm dentro, caixa de exportação ou caixa de madeira fora

 

Exibição de produto alvo de pulverização catódica de níquel

 

9995 Nickel Alloy Target
Alvo de pulverização catódica de níquel puro 99,99%
9999 Pure Nickel Sputtering Target
Alvo de pulverização catódica de níquel
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Nickel Alloy Target

High Purity Nickel Sputtering Targets

Perguntas frequentes sobre ZhenAn

 

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Q2: Posso usar nossa própria embalagem?

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