Alvo de pulverização catódica de alta pureza Nb

Alvo de pulverização catódica de alta pureza Nb

Forma: Prato
Superfície: Polida/Brilhante
Cor: Cinza
Density: >9.3--9.5g/cm3(sinterizado), 9.7--9.9g/cm3(HIP)
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Descrição
Parâmetros técnicos
Descrição do produto alvo de nióbio

 

Descrição do produto
O alvo rotativo de nióbio é feito por fusão a vácuo ou processo de pulverização a frio e pode ser produzido com um comprimento máximo de 4000 mm, e a espessura pode ser personalizada de acordo com as necessidades do cliente.
O alvo plano de nióbio é feito pelo processo de fusão a vácuo e pode ser produzido com um comprimento máximo de 2500 mm e uma largura máxima de 400 mm. O tamanho e a pureza podem ser personalizados de acordo com os requisitos do cliente.

Número da categoria técnica
Pureza: 99.95-99.99%
Áreas de aplicação: alta condutividade e outras indústrias de revestimentos, indústria de energia solar de película fina, indústria de vidro de baixa radiação, indústria de telas planas, indústria de revestimentos ópticos, indústria de ferramentas e revestimentos decorativos.

 

Embalagem e características dos alvos de nióbio

 

Marca Composição química: PPM, não mais que
Si Mês W Você Cr Ta Não O C H N (Nb+Ta)% Maior ou igual a
Nb3 20 20 80 100 10 10 1000 20 250 100 15 150 99.9%
Nb2 10 10 50 50 5 5 500 10 200 50 10 100 99.95%
Nb1 5 5 10 20 1 1 100 1 100 30 10 50 99.99%

 

Serviço de qualidade Zhenan

 

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High Purity Niobium Sputtering Target

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