Alvo de pulverização catódica de metal Ta puro

Alvo de pulverização catódica de metal Ta puro

Pureza: 99,9%
Tempo de entrega: 15-18 dias
Superfície: Polida e brilhante
Certificado: ISO9001:2015
Quantidade mínima do pedido: 1 peça
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Descrição
Parâmetros técnicos
Usos de alvos de tântalo

 

Ele pode ser usado para fazer vasos de evaporação, etc., e também pode ser usado como eletrodos para tubos de elétrons, retificadores, capacitores eletrolíticos, etc.

É usado na medicina para fazer folhas finas ou filamentos e reparar tecidos danificados.

É amplamente utilizado nas indústrias química, eletrônica, elétrica, militar e outras.

Alvos de tântalo são amplamente utilizados em semicondutores, armazenamento, militar, aeroespacial, vidro, revestimento PVD, revestimento CVD, etc.

 

Especificações dos alvos de tântalo

 

Item
Alvos de Tântalo Puro
Pureza disponível
99.95%
Tamanho disponível
Tamanho popular 1''-20'' conforme solicitação do cliente
Forma disponível
Retângulo, Redondo, Rotativo, Pellets, Lingotes,
Tecnologia
Sinterização

 

Nosso serviço

 

1. Faremos o possível para responder às solicitações dos nossos clientes dentro de 24 horas.

2. Manteremos comunicações eficazes e eficientes com nossos clientes.
3. Oferecemos controle de qualidade de primeira classe e serviços pós-venda.

 

Visita ao cliente e ambiente da empresa

 

Pure Tantalum metal sputtering target

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