Introdução relacionada ao alvo de pulverização catódica de tântalo
O alvo de pulverização catódica de tântalo é uma folha de tântalo obtida por processamento de pressão, com alta pureza química, tamanho de grão pequeno, boa estrutura de recristalização e consistência em três eixos. É usado principalmente para revestimento de deposição por pulverização catódica de fibras ópticas, chips semicondutores e circuitos integrados. O alvo de tântalo pode ser usado para revestimento de pulverização catódica, materiais ativos de absorção de alto vácuo, etc. É um material importante para tecnologia de filme fino.
Parâmetros relacionados de alvos de tântalo
| Material | Materiais de liga de tântalo |
| Pureza | 99,9%-99,999%, 3N,3N5,4N,5N etc. |
| Tamanho | D50,8x3mm,1-10mm, D3x3mm, 2 polegadas,3 polegadas, ou conforme solicitação |
| Cor | Cor branca |
| Forma | Pelotas, grânulos, planos/redondos/placas/rotativos/barras, conforme solicitação. |
| Superfície | Superfície polida |
| Densidade Ta | 16,65 g/cm3 |
| Ponto de fusão Ta | 2996 graus |
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